APEX LABO是一種小容量的實(shí)驗(yàn)型珠磨機(jī),可以很容易地獲得納米到微米級(jí)的產(chǎn)品。通過高速攪拌填充在容器內(nèi)的珠粒獲得強(qiáng)大的研磨力,并能在短時(shí)間內(nèi)進(jìn)一步細(xì)化或分散至目標(biāo)粒度。由于其結(jié)構(gòu)密封,也可用于有機(jī)溶劑體系的安全加工。
AM是一種立式研磨機(jī),有效地執(zhí)行研磨細(xì)顆粒的漿料處理,亞微米到微米的尺寸 一種間歇式磨粒機(jī),可以用30cc到80cc的小樣品進(jìn)行研磨和分散??梢允褂忙?5μm的細(xì)珠到Φ1mm的大直徑磨珠,并支持廣泛的應(yīng)用,從硬材料的強(qiáng)磨削到易受顆粒損傷的軟材料的低損傷分散??梢蕴幚硇∨浚哂懈哐心?分散性能,并在尺寸緊湊。是研發(fā)階段理想的實(shí)驗(yàn)型機(jī)。
適用珠磨粒徑: Φ0.015mm?Φ1.0mm
攪拌器轉(zhuǎn)速:2m/s?12m/s
1. 即使是少量的樣品也可以研磨分散
可以處理30至80cc的樣品量,適合于研究。APEX LABO可以高效地進(jìn)行新產(chǎn)品的試制、工藝條件的建立、分散劑處方的研究。
2. 可用于制備納米級(jí)到微米級(jí)產(chǎn)品
磨珠粒徑和轉(zhuǎn)速自由度大,因此一個(gè)單元可以處理各種加工條件??捎糜谘心シ稚⒅苽浼{米級(jí)到微米級(jí)樣品,同時(shí)可用于硬性材料的研磨和低損傷軟材料的分散。
3.設(shè)計(jì)緊湊,小巧,桌面型,可以安裝在通風(fēng)柜里
緊湊的設(shè)計(jì),可以靈活安裝??砂惭b在通風(fēng)柜中,安全地處理有機(jī)溶劑和有害物質(zhì)。防爆裝置也可用。
4.可以收集數(shù)據(jù),用于大生產(chǎn)設(shè)備選型
從實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)中可以得到Apex系列大型機(jī)器的產(chǎn)能估算和尺寸選擇等信息。
工作原理
珠磨機(jī)又稱砂磨機(jī),是一種在研磨腔中通過攪動(dòng)研磨介質(zhì)(磨珠)來研磨或分散漿料中的微小顆粒的設(shè)備。研磨容器內(nèi)部裝有攪拌器,攪拌轉(zhuǎn)子(銀灰)按照預(yù)設(shè)的轉(zhuǎn)速轉(zhuǎn)動(dòng),推動(dòng)研磨腔內(nèi)的研磨珠(白色)運(yùn)動(dòng),研磨珠通過撞擊或者摩擦剪切的方式將漿料中大顆粒粉碎成小顆粒,或者將小顆粒團(tuán)聚而成的團(tuán)簇分散開。漿料經(jīng)過粉碎或分散后,通過底部的狹縫,與研磨珠分離,然后從底部流出,通過管路回流到攪拌桶,之后再次被泵送入研磨腔,循環(huán)往復(fù),直至達(dá)到目標(biāo)細(xì)度。
珠磨機(jī)的工作簡單分,可分為兩種,一種是對(duì)大顆粒的“粉碎”,使之成為小顆粒;一種是對(duì)小顆粒團(tuán)聚的“分散”使之分散成小顆粒穩(wěn)定存在。圖2黃色圖形代表漿料內(nèi)部的顆粒。左邊的一整塊大顆粒經(jīng)過珠磨機(jī)處理后,變成一個(gè)個(gè)小顆粒,此過程稱之為粉碎。右邊大顆粒則是由小顆粒團(tuán)聚在一起形成的團(tuán)簇,經(jīng)過珠磨機(jī)處理后,原本團(tuán)聚在一起的顆粒全部分散開,并不會(huì)重新團(tuán)聚在一起,此過程稱之為分散。
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研磨(左)與分散(右)的區(qū)別 |
應(yīng)用
硬質(zhì)顆粒的細(xì)磨
① 無機(jī)氧化物,如氧化鋁和二氧化硅
② 用于拋光的細(xì)小顆粒,如氧化鈰和碳化硅
原料藥造粒
① 持久性溶解度API(活性藥物成分)
②中間體
聚集體納米顆粒的單一分散
① 無機(jī)氧化物,如氧化鈦、氧化鋯和ITO,鈦酸鋇(MLCC)
② 顏料(LCD、噴墨)
③ LIB材料(正極材料、添加劑)
④ 電極材料(Ni, Ag, Cu)
規(guī)格參數(shù)
樣品填充量 | 30mL,50mL,80mL |
圓周速度 | 2m/s~12m/s |
適用磨珠粒徑 | φ15 μm~φ1 mm |
大小 | 460mm(L)X370mm(W)X650mm(H) |
電源 | 0.75kw×100V |
重量 | 69kg |