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Ultra Apex Mill Advance 新型低損傷納米分散機

ADV是一種追求超低損傷納米分散的珠磨機。該模型特別適用于軟納米顆粒的低損傷分散。ADV是一種由專用轉(zhuǎn)子/分離器組成的整體旋轉(zhuǎn)的珠磨機。這種類型是一種極低損傷的珠磨機,追求均勻性和低損傷(低離心力)。ADV實現(xiàn)了傳統(tǒng)珠磨機由于顆粒斷裂而難以實現(xiàn)的納米顆粒分散。它使分散不損害顆粒的原始物理性質(zhì)。ADV是DAM和WAM的進一步發(fā)展模型,追求低損傷處理。適用珠磨粒徑: Φ0.015mm?Φ0.5mm攪拌

ADV是一種追求超低損傷納米分散的珠磨機。該模型特別適用于軟納米顆粒的低損傷分散。

 

ADV是一種由專用轉(zhuǎn)子/分離器組成的整體旋轉(zhuǎn)的珠磨機。這種類型是一種極低損傷的珠磨機,追求均勻性和低損傷(低離心力)。ADV實現(xiàn)了傳統(tǒng)珠磨機由于顆粒斷裂而難以實現(xiàn)的納米顆粒分散。它使分散不損害顆粒的原始物理性質(zhì)。ADV是DAM和WAM的進一步發(fā)展模型,追求低損傷處理。


適用珠磨粒徑: Φ0.015mm?Φ0.5mm

攪拌器轉(zhuǎn)速:2m/s?12m/s

珠磨分離器轉(zhuǎn)速:6m/s?12m/s


1.ADV實現(xiàn)了對粒子的低損傷分散。 

通過減小離心力,ADV可以使顆粒損傷最小化。還可以抑制再聚集和由于顆粒破裂而導(dǎo)致的漿料粘度增加、凝膠化。ADV是進一步提高DAM低損傷處理性能和WAM均勻處理性能的一種模型。 

 

2. ADV實現(xiàn)了高度均勻的分散處理。 

ADV配備了一個轉(zhuǎn)子,減少了磨珠的速度分布,抑制了磨珠的漂移。因此,它實現(xiàn)了極窄的粒度分布。該模型適用于有機顏料和電子材料的高級加工。 

 

3.ADV可以減少污染。 

ADV通過低離心操作降低了球珠間的碰撞能量,抑制了球珠的磨損。這就減少了漿料中的顆粒污染。

工作原理

珠磨機又稱砂磨機,是一種在研磨腔中通過攪動研磨介質(zhì)(磨珠)來研磨或分散漿料中的微小顆粒的設(shè)備。研磨容器內(nèi)部裝有攪拌器,攪拌轉(zhuǎn)子(銀灰)按照預(yù)設(shè)的轉(zhuǎn)速轉(zhuǎn)動,推動研磨腔內(nèi)的研磨珠(白色)運動,研磨珠通過撞擊或者摩擦剪切的方式將漿料中大顆粒粉碎成小顆粒,或者將小顆粒團聚而成的團簇分散開。漿料經(jīng)過粉碎或分散后,通過底部的狹縫,與研磨珠分離,然后從底部流出,通過管路回流到攪拌桶,之后再次被泵送入研磨腔,循環(huán)往復(fù),直至達到目標(biāo)細(xì)度。

深圳市偉燁鑫科技有限公司

ADV是一種由專用轉(zhuǎn)子/分離器組成的整體旋轉(zhuǎn)的珠磨機。這種類型是一種極低損傷的珠磨機,追求均勻性和低損傷(低離心力)。ADV是DAM和WAM的進一步發(fā)展模型,追求低損傷處理和高均一性。


珠磨機的工作簡單分,可分為兩種,一種是對大顆粒的“粉碎”,使之成為小顆粒;一種是對小顆粒團聚的“分散”使之分散成小顆粒穩(wěn)定存在。圖2黃色圖形代表漿料內(nèi)部的顆粒。左邊的一整塊大顆粒經(jīng)過珠磨機處理后,變成一個個小顆粒,此過程稱之為粉碎。右邊大顆粒則是由小顆粒團聚在一起形成的團簇,經(jīng)過珠磨機處理后,原本團聚在一起的顆粒全部分散開,并不會重新團聚在一起,此過程稱之為分散。

應(yīng)用


高粘度材料

 

光學(xué)材料(氧化鋯/二氧化硅在樹脂原料中的納米分散體)

 

導(dǎo)電涂層材料

 

化妝品(氧化鈦/氧化鋅在油中的分散體)

低傷害分散材料

 

電子材料(如鈦酸鹽、空心二氧化硅)

 

電極材料(如納米銀、鎳)

 

熱射線阻擋材料(如ITO)

 

光催化劑(氧化鈦)

 

LCD彩色濾光片顏料



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