TFHSM-12.7C06-532超級(jí)反射鏡SIGMA KOKI西格瑪光機(jī)光學(xué)元件

イオンビームスパッタリング法（IBS）を使用して、緻密で欠陥の少ない高品質(zhì)な膜が蒸著されています。 特殊な研磨技術(shù)を用い、表面粗さRa0.1nm以下の低散亂基板を使用しています。 長(zhǎng)年築き上げてきた膜設(shè)計(jì)技術(shù)により、反射率99.999％の反射膜を?qū)g現(xiàn)しました。 基板や膜による散亂損失は極めて小さく、キャビティーを構(gòu)成したときに、非常に狹いスペクトル幅と高いフィネスが期待できます。 波長(zhǎng)532nmと1064nmの2タイプをご用意しています。